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据说无尘室为人们提供了一个有利的环境（用于设备或过程的研究，开发和制造），其环境污染物含量低，例如灰尘，空气中的微生物，气溶胶颗粒和化学蒸汽。随着对质量检查和控制的日益重视，对缺陷的零容忍和严格的制造实践，无尘室的需求日益增加。现在，洁净室被设计为特殊构造的封闭区域，对空气中的颗粒，温度，湿度，气压流动模式，空气运动，振动，噪声和可行的生物进行环境控制。
不受控湿度影响：
- 微生物生长：菌和霉菌像水分一样。一旦您的洁净室超过相对湿度阈值60％，细菌，病毒，真菌等就会开始繁殖。
- 腐蚀：尽管某些金属（如铝）在其表面形成保护性氧化物，阻止了由于高湿度而导致的腐蚀劣化，但其他金属（如铜氧化物）却没有。如果您的洁净室正在处理金属，请确保将湿度保持在该60％阈值以下。
- 工作表面上的冷凝水导致工期延误和产品质量不佳。
- 污染导致产品变质。
- 静电：当环境中的湿度降低时，会积聚静电。
- 冷凝：水从气态转换为液态对于您的洁净室是个坏消息。当湿度达到70％阈值时，影响会比较大。
- 人员舒适度：您的人员想要穿上的*后一件东西，如防污染服和看起来像宇航员的头盔，很热且很粘。保持足够低的湿度，以使其不舒服。
微电路和微芯片制造需要称为光致抗蚀剂的吸湿性聚合物，以掩盖电路线以进行蚀刻工艺。由于其吸湿性，它们吸收水分，因此，切割或桥接了微小的电路线，导致电路故障。另外，在半导体制造中，当湿度水平在晶片制造区域中波动时，可能出现许多问题。烘烤时间通常会增加，并且整个过程通常会变得更难控制。相对湿度超过35％的湿度使组件易于腐蚀。当将显影剂溶剂喷射到晶片上时，溶剂会迅速蒸发，从而将晶片充分冷却以冷凝空气中的水分。这些多余的水会改变显影剂的特性，并被吸收到半导体层上。这可能会导致膨胀和其他产品质量问题，从而需要进行额外的过程控制。
在制药厂中，高湿度会导致细粉吸收水分，从而阻塞了压片机的进料。由水分吸收引起的粉末不一致会导致片剂破裂和片剂模头堵塞。湿度的变化意味着床温和喷涂速率的调整困难，从而导致热损坏和水分侵入。同样，空气管道中的湿度会为细菌菌落的生长创造潮湿的地方，并导致过程污染。
温湿度检测：航空航天，电子，医疗设备以及*重要的制药等行业要求严格控制污染，以确保法规遵从性，产品安全性和运营效率。因此，必须连续监控无尘室及其相关环境，以防发生不良事件。洁净室和其他关键环境需要高性能的环境测量结果，才能在规定范围内始终如一地运行。在无尘室环境中，湿度和温度测量尤其具有挑战性。维萨拉的高精度仪器和强大的解决方案解决了测量难题，并帮助保持洁净室设施的平稳运行。根据温度检测结果，进行修正洁净室环境，空气被加湿或除湿，然后被加热或冷却。
凭借*先进的测量技术，大湾专家指导和广泛的服务来支持您的洁净室操作，我们的产品可以测量，监控和记录湿度，露点，温度，压力等。了解有关我们的连续监控系统解决方案和专为关键清洁环境使用的无间隙数据记录的解决方案的更多信息。制药和包装单位在各个阶段都需要受控的环境。在这种情况下，同一单元中会有多个洁净室区域。质量保证经理或主管几乎不可能同时亲自检查所有洁净室。为了减轻压力，我们的无尘室监控器会为您做到这一点。
